如今EDI超純水設(shè)備已廣泛應(yīng)用到生產(chǎn)半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業(yè)。芯片行業(yè)在我國才剛剛起步,在未來有著廣闊的發(fā)展空間,接下來的10年將是我國芯片行業(yè)發(fā)展的機遇期,而應(yīng)用優(yōu)質(zhì)超純水設(shè)備才能夠保證芯片行業(yè)的水質(zhì)符合標(biāo)準(zhǔn),增加元件的成品率。
超純水在生產(chǎn)電子芯片的過程中必不可少。超純水設(shè)備是芯片生產(chǎn)中的重要一環(huán),隨著芯片的精密度越來越高,生產(chǎn)環(huán)節(jié)對于水質(zhì)的要求也越來越高,為了保證生產(chǎn)出超大規(guī)模的集成電路除高純原材料、高純氣體、高純化學(xué)藥品外,超純水也是其中重要的因素之一。
由于現(xiàn)代工業(yè)技術(shù)的發(fā)展,對水質(zhì)要求的日益嚴格,純水制備技術(shù)相應(yīng)地迅速發(fā)展起來,成為工業(yè)用水中應(yīng)用廣泛的一個新門類。水質(zhì)指標(biāo)接近理論純水稱為“超純水”,集中反映在電阻率、微粒、硅、溶解氣體、有機物、微生物等六個方面,其中電阻率達18MΩ·cm (25℃),即水的純度為99.99999%,微量電解質(zhì)含量10~20μg/L,粒徑為0.2μm-1μm的微粒,含量小于130個/mL,活的細菌,微生物0.01個/mL左右,各項水質(zhì)指標(biāo)基本達到電子級EW-1級水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
芯片行業(yè)制備超純水的傳統(tǒng)工藝是采用陰陽樹脂交換設(shè)備,該工藝的缺點在于樹脂在使用一段時間以后要經(jīng)常再生。隨著膜分離技術(shù)的不斷成熟,常采用反滲透工藝,或是采用反滲透后再經(jīng)過離子交換混床、拋光混床或EDI超純水設(shè)備工藝來制取超純水,保證出水水質(zhì)符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),滿足芯片行業(yè)用水需求。
EDI超純水設(shè)備還具有占地面積小,總投資少,運行環(huán)保等優(yōu)點。隨著技術(shù)的不斷提高,其應(yīng)用領(lǐng)域也越來越多,在電廠化學(xué)水處理方面、食品、飲料、飲用水的制備、海水苦咸水的淡化等方面都有著重要的應(yīng)用。
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