韓國環(huán)境部于去年11月在SKSilitron工廠舉辦了超純水示范工廠的奠基儀式。新工廠將驗證工業(yè)用超純水制造相關的各項技術，其中包含用于有機物去除的UV氧化系統(tǒng)，用于去除溶解氧的脫氣系統(tǒng)，以及相關設備和施工方式。

　　新工廠建在半導體制造商的工廠內(nèi)，在技術驗證期間也能供應超純水，韓國計劃在2025年之前完成技術驗證，目的是減少對于外國技術的依賴。這家工廠的目標是每天生產(chǎn)2400噸超純水，此外遠期目標是將生產(chǎn)和運營過程中進口設備的使用率降低至0%，技術和設備采購方面的進口依賴程度降低到40%。

　　據(jù)了解，超純水是半導體芯片制造過程中必不可少的，臺積電每天需要用到大量的超純水對晶圓表面進行清潔。這種水內(nèi)部的有機物含量需要低于0.01ppm(百萬分之一)。此前，韓國一直依賴從法國和日本進口超純水。

　　說到這兒，對于超純水不了解的人一定很想知道什么是超純水?超純水該如何生產(chǎn)及應用?它與我們經(jīng)常提到的純水有什么區(qū)別呢?為什么在電子芯片生產(chǎn)中會經(jīng)常提到超純水呢?接下來小編就一一為大家做解答。

　　我們要知道什么是超純水。

　　超純水(Ultrapure water)又稱UP水，是指電阻率達到18 MΩ*cm(25℃)的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水?？梢杂糜诔儾牧?半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當?shù)某R界精細技術的制備過程。

　　那么，它與我們經(jīng)常提到的純水，高純水有什么區(qū)別呢?

　　純水是指水中的強電解質(zhì)和弱電解質(zhì)(如等)去除或降低到一定程序的水。其電導率一般為：1.0-0.1μs/cm,電阻率1.0-10.0×106Ω·cm。含鹽量<1mg/L。在試驗中使用較多，又因是以蒸餾等方法制作，故又稱蒸餾水。市場上出售的太空水，蒸餾水均屬純凈水;但純水還是少喝為好，因為里面并沒有太多人體需要的礦物質(zhì)。

　　高純水指化學純度極高的水，其主要應用在生物、化學化工、冶金、宇航、電力等領域，但其對水質(zhì)純度要求相當高，所以一般應用普遍的還是電子工業(yè)。例如電力系統(tǒng)所用的純水，要求各雜質(zhì)含量低達到“微克/升”級?？傊N“純水”純度不一樣，用法也不同，沒有必要一較高下!

　　超純水該如何生產(chǎn)及應用?

　　超純水設備采用獨有的靶向離子交換系統(tǒng)針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除同時還能連續(xù)、穩(wěn)定地生產(chǎn)高純度的超純水。

　　超純水可以在以下領域使用 ：

　　(1)電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。

　　(2)化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等。

　　(3)單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝。

　　(4)高壓變電器的清洗等。

　　既然應用領域如此廣泛，那么在芯片生產(chǎn)過程中有什么作用呢?

　　芯片相當于電子行業(yè)的“大腦”，雖然只有指甲蓋大小，但一個芯片板上要放上數(shù)十億個納米級別的晶體管。在芯片生產(chǎn)時80%以上的工序都需要經(jīng)過化學處理，而每一道化學處理都離不開水，因此半導體行業(yè)對于生產(chǎn)用水的水質(zhì)要求也是相當嚴格，因為一旦水質(zhì)不合格，或者是水中含有雜質(zhì)，就會降低器件的性能，降低成品率，因此在生產(chǎn)時需要用到超純水。芯片行業(yè)用水是否合格，也決定著產(chǎn)品是否能取勝，因此超純水設備成為了芯片行業(yè)“決勝點”。

　　萊特萊德超純水設備通常由石英砂過濾器，活性碳過濾器，阻垢劑、精密過濾器等構成預處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構成主要設備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，使該設備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

　　萊特萊德超純水設備在設計上采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，確保處理后出水電阻率達到18MΩ.CM以上。設備內(nèi)部還安裝有反滲透預脫鹽技術，再次從根本上行保障了設備的出水水質(zhì)，與此同時，EDI處理裝置廢水產(chǎn)出量少，不會對環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟效益，其發(fā)展前景廣闊。

　　綜上所述，這就是為什么生產(chǎn)超純水如此重要，在芯片生產(chǎn)中更需要。萊特萊德可根據(jù)客戶需求量身定制工藝用水、清洗用水、循環(huán)用水等超純水處理解決方案。